211service.com
Intel, IBM kapitalinio remonto medžiaga naujos kartos mikroprocesoriui
Šeštadienį „Intel“ ir IBM atskirai paskelbė apie naujo tipo tranzistorių medžiagą, dėl kurios, anot kompanijų, bus mažesni lustai, padidės skaičiavimo našumas ir kompiuteriai bus efektyvesni. Abu lustų gamintojai planuoja integruoti naują medžiagą į kitą lustų gamybos liniją, vadinamą 45 nanometrų karta, per metus. Galiausiai dėl šios pažangos kompiuteriai turėtų geriau žaisti vaizdo žaidimus, redaguoti filmus ir atlikti kitas procesoriaus reikalaujančias užduotis.
„Intel“ statinės laisvosios kreipties atminties (SRAM) lusto, kuriame yra daugiau nei vienas milijardas tranzistorių, vaizdas, pagamintas iš naujų medžiagų, šiandien paskelbė bendrovė. Atskirai IBM ir „Intel“ paskelbė apie naujas lustų medžiagas, padedančias pagerinti naujos kartos mikroprocesorių našumą.
„Intel“, žinoma dėl savo asmeninių kompiuterių lustų, taip pat paskelbė, kad nauji lustai pasirodys naujos kartos dviejų ir keturių branduolių kompiuteriuose ir serveriuose, kurie turėtų būti pradėti gaminti šių metų pabaigoje. IBM, gerai žinoma dėl savo serverių ir didelio našumo skaičiavimo sistemų, tikisi, kad produktai su naujais lustais bus pristatyti 2008 m. pradžioje.
Istoriškai mikroprocesorių našumas padvigubėjo kas dvejus metus, vadovaujantis tendencija, žinoma kaip Moore'o įstatymas. Našumas padidėjo dėl lustų gamybos technologijos, leidžiančios tranzistoriams mažėti kiekvienai kartai, leidžiant į lustą sudėti daugiau tranzistorių arba sumažinti lustus. Šiuo metu dauguma kompiuterių ir serverių mikroprocesorių gaminami naudojant vadinamąjį 65 nanometrų procesą. Naujos kartos tranzistoriai bus sumažinti naudojant 45 nanometrų procesą. Tačiau naujos kompanijų medžiagos suteiks šios kartos lustams didesnį našumą, kuris nebūtų įmanomas kitaip.
Vienas iš medžiagų pakeitimų bus svarbiame tranzistoriaus komponente, vadinamame vartų dielektriku. Šis komponentas padeda valdyti elektronų srautą, kuris įjungia arba išjungia tranzistorių. Dešimtmečius vartų dielektrikas buvo pagamintas iš izoliacinės medžiagos, vadinamos silicio dioksidu. Tačiau tranzistoriams susitraukus, silicio dioksido sluoksnis turėjo tapti plonesnis. Tačiau tai kelia problemų, nes plonas silicio dioksido sluoksnis praleidžia elektros srovę, gamindamas perteklinę šilumą ir prastai veikia įrenginį.
IBM ir „Intel“ nustatė, kad medžiaga, vadinama „high-k“, gamina tokius pat privalumus kaip silicio dioksidas, tačiau ji gali tai padaryti storesniu sluoksniu. Medžiaga pagaminta iš elemento hafnio, ir abi bendrovės teigia, kad tai žymiai sumažina srovės nuotėkio kiekį.
Be to, kad reikėjo pakeisti vartų dielektriką, abi bendrovės buvo priverstos persvarstyti medžiagos tipą, skirtą naudoti patiems vartams – tranzistoriaus komponentą, kuris galiausiai įjungia ir išjungia tranzistorių. Tradiciškai vartai buvo gaminami iš polisilicio – mažiau struktūrizuoto kristalinio silicio, kuris naudojamas tranzistoriuje. Tačiau norėdami, kad vartai būtų suderinami su naujuoju vartų dielektriku, „Intel“ ir IBM pakeitė polisilicio metalą, kurio pavadinimo kol kas neatskleis nė viena įmonė.
„Intel“ teigia, kad jos naujieji dielektriniai ir metaliniai užtvarai leidžia tranzistorius varyti 20 procentų didesne srove nei anksčiau, o tai reiškia, kad našumas padidėja 20 procentų, sako Markas Bohras, „Intel“ vyresnysis bendradarbis. Manome, kad tai svarbus laimėjimas, kuris tikrai išplės Moore'o įstatymą.
Bohras atkreipia dėmesį į tai, kad didelio K vartų dielektrinių ir metalinių vartų tyrimai nėra naujiena ir kad mokslinių darbų apie pažangą šioje srityje buvo skelbiami jau daugelį metų. Tačiau jis įsitikinęs, kad „Intel“ rado geriausią medžiagų derinį, galintį išlaikyti lustų gamybą ateinantį dešimtmetį.
Svarbiausia, kad šios naujos medžiagos būtų sėkmingai įdiegtos, yra užtikrinti, kad jos sklandžiai tilptų į gamybos liniją, sako Bernardas Meyersonas, IBM vyriausiasis technologas. Turite atidžiai pažvelgti į tai, kaip tai įgyvendinama, sako jis. IBM rado būdą, kaip pridėti naujų medžiagų į gamybos procesą neperžiūrint viso proceso, o tai gali būti brangu. „Intel“ Bohr teigia, kad kalbant apie naujų lustų gamybą jo įmonėje, dauguma proceso įrangos yra tokia pati kaip ir ankstesnėse kartose.